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    Abbildung 1: Neu entwickeltes Verfahren zur Prüfung filmisch/chemischer Oberflächenrückstände, das in der ebenfalls neuen Richtlinie VDI 2083 Blatt 23 geregelt und beschrieben ist (Quelle aller Abbildungen: Fraunhofer IPA).

    Prüfung von chemischen Oberflächenrückständen

    Ein neuer Ansatz nach VDI 2083 Blatt 23

    Regularien

    Der Hintergrund
    Die Aufgabe
    Das ungelöste Problem
    Der neue Ansatz
    Die Eigenschaften des neuen Verfahrens
    Der aktuelle Stand

    Key Words: filmische Kontaminationen, technische Sauberkeit, nicht flüchtige Rückstände, Quarzkristall-Mikrowaage

    Dr.-Ing. Markus Rochowicz und Dr.-Ing. Dipl.-Biol. Markus Keller · Fraunhofer-Institut für Produktionstechnik und Automatisierung IPA, Stuttgart

    Korrespondenz:

    Dr.-Ing. Markus Rochowicz, Fraunhofer Institut für Produktionstechnik und Automatisierung, Nobelstraße 12, 70569 Stuttgart; E-Mail: Markus.Rochowicz@ipa.fraunhofer.de

    Dr.-Ing. Markus Rochowicz
    Dr.-Ing. Markus Rochowicz ist als Gruppenleiter Reinheitstechnik seit 2008 in der Abteilung Reinst- und Mikroproduktion des Fraunhofer IPA in Stuttgart mit seinem Team für Reinheitsfragestellungen in der Produktion für ein breites Kundenbranchenspektrum zuständig. Vorher war er seit 1996 als wissenschaftlicher Mitarbeiter
    (...)
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