Rubrik: F & E
(Treffer aus cleanroom & processes, Nr. 01, Seite 4 (2023))
Landgraf M | Seidel K | Krause R
Halbleiter-Forschung in Dresden / Neues Center des Fraunhofer IPMS · Landgraf M, Seidel K, Krause R · Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS, Dresden
Mit der Einrichtung des Centers for Advanced CMOS & Heterointegration Saxony bündeln das Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS sowie der Institutsteil All Silicon System Integration Dresden (ASSID) des Fraunhofer-Institut für Zuverlässigkeit und Mikrointegration IZM ihre Kompetenzen in der Halbleiter-Forschung. Sie bieten künftig die komplette Wertschöpfungskette in der 300-mm-Mikroelektronik und damit die Voraussetzungen für Hightech-Forschung in Zukunftstechnologien mit internationaler Reichweite. Der 300-mm-Wafer-Industriestandard ist dabei entscheidend, denn nur so kann einerseits ein schneller Transfer von Forschungsergebnissen in die Halbleiter-Industrie Sachsens, bundesweit und auch weltweit gewährleistet werden. Andererseits ist dieser Wafer-Standard Grundvoraussetzung, um im frontendnahen Sub-100-nm-Bereich überhaupt an neuen Technologieentwicklungen erfolgreich mitwirken zu ...